金融界2025年8月2日音讯,国家知识产权局信息数据显现,浙江斯凯沃微电子有限公司请求一项名为“一种碳化硅晶圆抛光液及其制备办法”的专利,公开号CN120399578A,请求日期为2025年04月。
专利摘要显现,本发明触及抛光组合物技术领域,详细为一种碳化硅晶圆抛光液及其制备办法。本发明克服了传统抛光液对碳化硅晶圆外表资料去除功率低,抛光后得到的碳化硅晶圆外表上的质量衰减高的问题。本发明在氧化硅悬浮液制备过程中,经过操控反响物质量、反响条件,进步氧化硅微球的纯度和涣散性;经过对3‑氨基丙基三乙氧基硅烷改性,结合超声处理得到涣散性杰出的氧化硅涣散液;硝酸铈胺溶液与氧化硅涣散液复配得到核壳结构磨料;核壳结构磨料供给高效的机械研磨才能,电化学机械抛光液经过柠檬酸的络合效果和硝酸钾的氧化效果软化、氧化碳化硅外表,二者协同效果生成的碳化硅晶圆抛光液对碳化硅晶圆的去除功率高、安稳碳化硅晶圆的外表质量。
天眼查资料显现,浙江斯凯沃微电子有限公司,成立于2021年,坐落绍兴市,是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1309.11万人民币。经过天眼查大数据分析,浙江斯凯沃微电子有限公司参加招投标项目5次,专利信息4条,此外企业还具有行政许可1个。
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